Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

٢٩٫٩٥٠ د.ب.‏
+ ١٠٫٤٩٠ د.ب.‏ الشحن
  • product image

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

  • العلامة التجارية: Unbranded
البائع:

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

  • العلامة التجارية: Unbranded

٢٩٫٩٥٠ د.ب.‏

متبقي في المخزون ١ فقط
+ ١٠٫٤٩٠ د.ب.‏ الشحن

سياسة الإرجاع لمدة 14 يوما

البائع:

٢٩٫٩٥٠ د.ب.‏

متبقي في المخزون ١ فقط
+ ١٠٫٤٩٠ د.ب.‏ الشحن

سياسة الإرجاع لمدة 14 يوما

طرق الدفع:

الوصف

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling optimization and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
  • العلامة التجارية: Unbranded
  • الفئة: العلوم والطب والطبيعة
  • حَجْم: Paperback
  • اللغة: English
  • المؤلف: Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
  • عدد الصفحات: 354
  • تاريخ النشر: 2025-05-07
  • الناشر/ العنوان: Taylor & Francis Ltd
  • هوية Fruugo: 484517065-1005482003
  • ISBN: 9781032386737

توصيل

يُرسل خلال ٦ أيام

  • STANDARD: ١٠٫٤٩٠ د.ب.‏ - التسليم بين الخميس 23 يوليو 2026 – الأربعاء 12 أغسطس 2026

يُشحن من المملكة المتحدة.

الإرجاع

نحن نبذل قصارى جهدنا لضمان أن تصلك المنتجات التي تطلبها بالكامل وطبقاً المواصفات التي حددتها. إلا أنه في حال تلقيك طلب غير كامل أو أغراض تختلف عن تلك التي طلبتها أو كان هناك سبب آخر يدعوك لعدم الرضاء عن الطلب، فيمكنك رد الطلب أو أي منتجات يتضمنها الطلب واسترداد ما دفعته من أجل تلك الأغراض بالكامل.

عرض سياسة الرد الكاملة